徐教授点头：“哈桑殿下，您放心，只要有资金支持，咱们的技术就一定会保持领先！”

秦富向来不重视细节，反正电子产业是交给六哥的，接下来让六哥去协调好了。

等等！

秦富想到了什么：“我们的光刻机，使用什么光源？”

想要超越西方，还得在技术路线上走对了！后世的阿斯麦能够成为光刻机的霸主，而尼康这些大佬陨落，就是因为技术路线错误。

“早期的接触式光刻机用的是436纳米的g-line和365纳米的i-line光源，不过进入七十年代之后，准分子激光光源开始出现，咱们的光刻机，用的是248纳米的KrF光源，从理论上说，这种光源的光刻机，可以一直用到0.18微米的工艺水准。咱们在十年内，都不用担心光源问题。”

现在的芯片，还是几微米级别的，八十年代，东方提出的531工程，就是量产5微米，研发3微米，争取上1微米而已。

但是，光刻机这个赛道，也是很卷的，必须得提前研究下一代的光源，否则就会落后。

“哦，那十年后呢？”

“十年后，应该会过渡到ArF的技术路线上。”徐教授说道：“咱们华清大学激光所，已经在搞这种全新的光源了，十年内，必然会搞出来。不过……也有一些公司着手更加超前，比如IBM公司，已经在搞X射线的研究了。”

光刻机的技术路线，是在ArF光源上遭遇巨大阻力的，这种光源波长193纳米，理论可以刻蚀到55纳米的工艺，但是再向下，就会碰到一座大山。

接下来用什么光源，行业内都是懵逼的，尼康这种老牌厂商，就是错误押宝，开发154纳米的光源，而阿斯麦，用了浸润式光刻机，给镜头加水，改变折射率，直接让光源降低到了134纳米。

浸润式光刻机在多重曝光之后，最低可以做到10纳米，再向下，就是极紫外的EUV光刻机了。

所以，只要ArF这个赛道不出错，以后咱们迅速过渡到浸入式光刻机，那就能用到新千年之后了！

“嗯，咱们坚定地走自己的技术路线就行！”秦富点头。